Platinenherstellung mit der "Foto-Transfer-Technik": Unterschied zwischen den Versionen

Version vom 30. April 2006, 12:45 Uhr

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Herstellen von Leiterplatten

Fototransfer Methode

benötigtes Material

• Eine Vorlage, nach welcher die Leiterpaltte entstehen soll

auch "Film" genannt

• Fotopositiv beschichtete Leiterplatten
• eine Geeignete Lichtquelle (UV-Belicher oder Nitraphot-Leuchtmittel)
• Glasplatte (etwas größer als die zu belichtende Platine) 3mm bis 5mm Stärke
• Entwickler
• Entwicklerschale
• Ätzmittel
  • Natriumchlorid auch Feinätzkristall genannt(meine Empfehlung)
  • Ammoniumchlorid ´
  • oder FEIIICL (Eisen III Chlorid)
• Ätzschale oder Ätzküvette (dann aber mit Heizung)
• Aufbewahrungsbehälter
• Schutzhandshuhe
• Fleißendes Wasser
• Spülmittel
• Schutzhandschuhe, Schutzbrille und eine Schürze (nehm ich aber nie :-) )

Anfangs kann auch mit sog. Einsteigersets gearbeitet werden.

Bestimmung der Belichungszeit

Die Belichungszeit ist von vielen Faktoren abhängig:

• Stärke und Art der Lichtquelle
• Abstand von Lichtquelle zur Platine
• Material (unterschiedliches Basismateial)

Um mit definierten Werten arbeiten zu können ist es zunächst nötig, dass man sich eine Anordnung aufaut, zunächst Position und Abstand von Platine zur UV-Quelle, welche später immer wieder gleich nachgebildet werden kann. Nur so kann man gleichwertige Ergebnisse erzielen. Um die richtige Belochungsdauer zu bestimmen, ist es sinnvoll sich einen sog. Belichtungstest durchzuführen.

Belichungsteststreifen

Entwickln der belichteten Leiterplatte

Ätzen der entwickelten Leiterplatte

Nachbearbeiten der fast fertigen Leiterplatte